光譜橢偏儀通過捕捉偏振光經樣品反射后的偏振態變化，獲取振幅比Ψ和相位差Δ兩個核心參數，經光學模型擬合反演得到目標數據，測量精度可達亞納米級，無需標準參考片，對環境光波動、樣品散射的抗干擾能力強。

功能：

薄膜厚度測量：可測范圍從單原子層到50 μm以上，精度可達亞埃級

光學常數測定：折射率n、消光系數k、介電函數ε隨波長的變化

多層膜結構分析：可解析多達50層的復合薄膜結構

界面粗糙度評估：通過有效介質近似模型分析表面/界面粗糙度

材料組分分析：確定非化學計量材料的成分比例

高低溫原位測試：配合高低溫臺，研究溫度對薄膜特性的影響

自動Mapping掃描：分析樣品鍍膜均勻性

優勢：

無損非接觸、樣品無需預處理，可重復測試

超高靈敏度，可測單原子級超薄薄膜

一次測量獲得全光譜光學常數，可解析復雜多層膜結構

測試速度快，單點毫秒級，適配在線批量檢測